Estudio de películas delgadas de AlN depositadas mediante sputtering por magnetrón DC en modo reactivo : efecto de la presión en la textura

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El nitruro de aluminio es un compuesto cerámico con multitud de aplicaciones tecnológicas en muchos campos, tales como la óptica, la electrónica y los dispositivos resonadores. La eficiencia del AlN es altamente dependiente de las condiciones experimentales de deposición. En este artículo se analiza...

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Autores principales: García Molleja, Javier, Gómez, Bernardo Jose Armando, Abdallah, Bassam, Djouadi, Mohamed Abdou, Feugeas, Jorge Néstor, Jouan, P. -Y.
Lenguaje:Español
Publicado: 2015
Materias:
ALN
SPUTTERING REACTIVO DC
MICROSCOPIA ELECTRONICA DE TRANSMISION DE ALTA RESOLUCION
PERFIL DE TENSIONES
DIFRACCION DE RAYOS X
DC REACTIVE SPUTTERING
HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY
STRESS PROFILE
X-RAY DIFFRACTION
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v26_n04_p190
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
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