Interacción de iones con superficies de películas aislantes : emisión electrónica
Se caracterizó el crecimiento de películas delgadas de fluoruro de aluminio (AlF₃) sobre superficies conductoras (aluminio y cobre) por espectroscopía de electrones Auger inducida por bombardeo de electrones. Se observó que el crecimiento de las películas es capa por capa. Se estudió la emisión elec...
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| Formato: | Artículo publishedVersion |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
Asociación Física Argentina
2002
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| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v14_n01_p171 |
| Aporte de: |
| Sumario: | Se caracterizó el crecimiento de películas delgadas de fluoruro de aluminio (AlF₃) sobre superficies conductoras (aluminio y cobre) por espectroscopía de electrones Auger inducida por bombardeo de electrones. Se observó que el crecimiento de las películas es capa por capa. Se estudió la emisión electrónica inducida por bombardeo rasante (α=1°) de protones a energía intermedia (60 keV) en función del espesor de la película (desde submonocapas hasta ~200Å). En particular, se centró la atención en los cambios observados en la distribución en energía de los electrones convoy, es decir, aquellos electrones que luego de la colisión con la superficie siguen al proyectil con velocidades similares. Se compararon estas distribuciones con las correspondientes a colisiones en fase gaseosa, discriminando de esta forma los efectos de los potenciales inducidos sobre la superficie, tanto para el caso del sustrato (conductor) como para el de la película aislante depositada |
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