Transitorios en la corriente de túnel en estructuras polySi-SiO₂-Si asociados a la captura-liberación de carga en el aislante
En este trabajo se muestra que un modelo sencillo para la corriente de túnel a través del óxido de puerta en una estructura polySi-SiO₂-Si reproduce fielmente los transitorios de la corriente asociados al fenómeno de atrapamiento-desatrapamiento de carga en el aislante. El mismo se basa en una expre...
Guardado en:
Autores principales: | , , |
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Lenguaje: | Español |
Publicado: |
1996
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Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v08_n01_p163 |
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todo:afa_v08_n01_p1632023-10-03T13:22:40Z Transitorios en la corriente de túnel en estructuras polySi-SiO₂-Si asociados a la captura-liberación de carga en el aislante Redin, Eduardo Gabriel Miranda, Enrique A. Faigón, Adrián Néstor En este trabajo se muestra que un modelo sencillo para la corriente de túnel a través del óxido de puerta en una estructura polySi-SiO₂-Si reproduce fielmente los transitorios de la corriente asociados al fenómeno de atrapamiento-desatrapamiento de carga en el aislante. El mismo se basa en una expresión modificada de la relación de túnel Fowler-Nordheim donde, el campo eléctrico catódico es reemplazado por el campo eléctrico dentro del aislante correspondiente a la energía del nivel de Fermi en el cátodo (Si). El estado de carga del óxido se obtiene a partir del corrimiento de la tensión de bandas planas inducido por la inyección de carga a tensión constante In this work it is shown a simple model for the tunneling current through the gate oxide of a polySi-SiO2-Si structure that reproduces with great detail the current transitories associated with the charge trapping- detrapping phenomena occurring within the insulator. It is based on a modified Fowler-Nordheim tunneling expression, where the cathode electric field is substituted by the electric field at the insulator corresponding to the cathode Fermi energy (Si). The oxide state of charge is obtained from the flat band voltage shift induced by constant voltage charge injection Fil: Redin, Eduardo Gabriel. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física. Laboratorio de Física de Dispositivos-Microelectrónica (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina Fil: Miranda, Enrique A.. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física. Laboratorio de Física de Dispositivos-Microelectrónica (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina Fil: Faigón, Adrián Néstor. Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ingeniería. Departamento de Física. Laboratorio de Física de Dispositivos-Microelectrónica (UBA-FI). Buenos Aires. Argentina 1996 PDF Español info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v08_n01_p163 |
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En este trabajo se muestra que un modelo sencillo para la corriente de túnel a través del óxido de puerta en una estructura polySi-SiO₂-Si reproduce fielmente los transitorios de la corriente asociados al fenómeno de atrapamiento-desatrapamiento de carga en el aislante. El mismo se basa en una expresión modificada de la relación de túnel Fowler-Nordheim donde, el campo eléctrico catódico es reemplazado por el campo eléctrico dentro del aislante correspondiente a la energía del nivel de Fermi en el cátodo (Si). El estado de carga del óxido se obtiene a partir del corrimiento de la tensión de bandas planas inducido por la inyección de carga a tensión constante |
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