Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios

Mediante la teoría de la funcional densidad, pseudopotenciales escalares relativistas conservadores de la norma, se han estudiado en un esquema autoconsistente, la estructura electrónica del defecto Cd en Silicio en sitio sustitucional así como la vacancia neutra en silicio Si:V°. Mediante el método...

Descripción completa

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Casali, Ricardo Antonio, Caravaca, M. A.
Lenguaje:Español
Publicado: 1993
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v05_n01_p297
Aporte de:
id todo:afa_v05_n01_p297
record_format dspace
spelling todo:afa_v05_n01_p2972023-10-03T13:21:07Z Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios Casali, Ricardo Antonio Caravaca, M. A. Mediante la teoría de la funcional densidad, pseudopotenciales escalares relativistas conservadores de la norma, se han estudiado en un esquema autoconsistente, la estructura electrónica del defecto Cd en Silicio en sitio sustitucional así como la vacancia neutra en silicio Si:V°. Mediante el método de supercelda se simuló el defecto aislado. Se estudio la estructura de bandas de la supercelda en direcciones de alta simetría. Se analiza el comportamiento del gas de electrones de valencia de ambos sistemas respecto al silicio puro. Se halló: a) alta concentración espacial de la perturbación en la densidad de carga tanto en Si:Cd como en Si:V°, b) un nivel triplemente degenerado en G y R para ambos sistemas que se separa dando lugar a una banda de poca dispersión en la dirección Γ→R State of the art first principles pseudopotential in the local density approximation of the electronic structure of Cd in silicon in the substitutional site and neutral vacancy are presented. We have calculated, within the supercell approximation the band structure in high symmetry direction of both systems and they are compared with the pure silicon one. We also present valence charge densities in the plane (110) for the systems and their differences with respect to pure Si. Charge density contours in Si:Cd exhibit high concentration of perturbation and transfer of electrons of Cd to first neighbors. A low dispersion band in the Γ→R direction was found, giving a resonance in the gap Fil: Casali, Ricardo Antonio. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas, Naturales y Agrimensura (UNNE-FACENA). Corrientes. Argentina Fil: Caravaca, M. A.. Universidad Nacional del Nordeste. Facultad de Ciencias Exactas, Naturales y Agrimensura (UNNE-FACENA). Corrientes. Argentina 1993 PDF Español info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v05_n01_p297
institution Universidad de Buenos Aires
institution_str I-28
repository_str R-134
collection Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA)
language Español
orig_language_str_mv Español
description Mediante la teoría de la funcional densidad, pseudopotenciales escalares relativistas conservadores de la norma, se han estudiado en un esquema autoconsistente, la estructura electrónica del defecto Cd en Silicio en sitio sustitucional así como la vacancia neutra en silicio Si:V°. Mediante el método de supercelda se simuló el defecto aislado. Se estudio la estructura de bandas de la supercelda en direcciones de alta simetría. Se analiza el comportamiento del gas de electrones de valencia de ambos sistemas respecto al silicio puro. Se halló: a) alta concentración espacial de la perturbación en la densidad de carga tanto en Si:Cd como en Si:V°, b) un nivel triplemente degenerado en G y R para ambos sistemas que se separa dando lugar a una banda de poca dispersión en la dirección Γ→R
author Casali, Ricardo Antonio
Caravaca, M. A.
spellingShingle Casali, Ricardo Antonio
Caravaca, M. A.
Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
author_facet Casali, Ricardo Antonio
Caravaca, M. A.
author_sort Casali, Ricardo Antonio
title Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
title_short Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
title_full Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
title_fullStr Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
title_full_unstemmed Estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
title_sort estructura electrónica de defecto profundo y vacancia neutra en silicio mediante un método de primeros principios
publishDate 1993
url https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v05_n01_p297
work_keys_str_mv AT casaliricardoantonio estructuraelectronicadedefectoprofundoyvacancianeutraensiliciomedianteunmetododeprimerosprincipios
AT caravacama estructuraelectronicadedefectoprofundoyvacancianeutraensiliciomedianteunmetododeprimerosprincipios
_version_ 1782028598779052032