Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS

En este trabajo se analiza la influencia de la concentración de tiourea en el proceso de deposición de cinc por medio de técnicas electroquímicas. Se ha encontrado una concentración óptima del aditivo en cuanto a que los depósitos son de más calidad y resultan ser más refinados y nivelados. Como se...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Mahmud, Z., Gordillo, G., Gassa, L., Ventura D'Alkaine, C.
Formato: Informe técnico
Lenguaje:Español
Publicado: Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales 2016
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00013
Aporte de:
id technicalreport:technicalreport_n00013
record_format dspace
institution Universidad de Buenos Aires
institution_str I-28
repository_str R-134
collection Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA)
language Español
orig_language_str_mv spa
description En este trabajo se analiza la influencia de la concentración de tiourea en el proceso de deposición de cinc por medio de técnicas electroquímicas. Se ha encontrado una concentración óptima del aditivo en cuanto a que los depósitos son de más calidad y resultan ser más refinados y nivelados. Como se sabe, una forma de protección contra la corrosión de los metales utilizados como sustratos, es mediante recubrimientos metálicos que le dan al sustrato o metal de base protección o más valor (en el caso de metales preciosos como el oro o la plata o el cromado decorativo) o le mejoran notoriamente sus propiedades de resistencia mecánica y / o la resistencia contra la corrosión en servicio (cincados, cromados ingenieriles). Una de las técnicas de obtención de recubrimientos es mediante la electrodeposición. Los aditivos, en general son sustancias orgánicas que se agregan a la solución de electrodeposición para modificar la calidad de los acabados metálicos. Son fórmulas bajo patente y se desconoce cual es la función del aditivo para cada proceso. El uso correcto del aditivo puede resultar en la producción de un recubrimiento nivelado, brillante y con buena resistencia contra la corrosión. En los estudios voltamétricos hemos encontrado que la reducción del Zn 2+ se acelera en presencia de tiourea. Mediante la Espectroscopia de Impedancia Electroquímica, EIS, hemos hallado la cantidad óptima de aditivo para un acabado más decorativo. Se ha encontrado que la resistencia a la corrosión disminuye en presencia detiourea. Mientras que la resistencia a la corrosión se incrementa, cuando las concentraciones de tiourea son próximas al valor óptimo.
format Informe técnico
Informe técnico
submittedVersion
author Mahmud, Z.
Gordillo, G.
Gassa, L.
Ventura D'Alkaine, C.
spellingShingle Mahmud, Z.
Gordillo, G.
Gassa, L.
Ventura D'Alkaine, C.
Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
author_facet Mahmud, Z.
Gordillo, G.
Gassa, L.
Ventura D'Alkaine, C.
author_sort Mahmud, Z.
title Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
title_short Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
title_full Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
title_fullStr Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
title_full_unstemmed Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS
title_sort control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por eis
publisher Universidad de Buenos Aires. Facultad de Ciencias Exactas y Naturales
publishDate 2016
url http://hdl.handle.net/20.500.12110/technicalreport_n00013
work_keys_str_mv AT mahmudz controldeaditivotioureaenlasoluciondeelectrodeposiciondecincporeis
AT gordillog controldeaditivotioureaenlasoluciondeelectrodeposiciondecincporeis
AT gassal controldeaditivotioureaenlasoluciondeelectrodeposiciondecincporeis
AT venturadalkainec controldeaditivotioureaenlasoluciondeelectrodeposiciondecincporeis
bdutipo_str Repositorios
_version_ 1764820571281948674