Crecimiento de películas ultra-delgadas de aisladores sobre una superficie metálica : AlF3 sobre Cu(100)

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En este trabajo caracterizamos el crecimiento de películas de fluoruro de aluminio (AlF3) sobre Cu(100) mediante la técnica de microscopía túnel de barrido (STM). Las imágenes túnel muestran que a medida que van creciendo en tamaño las islas de fluoruro de aluminio, éstas experimentan una transición...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Moreno-López, Juan Carlos, Ruano Sandoval, Gustavo Daniel, Vidal, R. A., Passeggi, Mario César Guillermo, Ferrón, Julio
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 2009
Materias:
FLUORURO DE ALUMINIO
COBRE
CRECIMIENTO DE PELICULAS ULTRA DELGADAS
STM
ALUMINIUM FLUORIDE
COPPER
ULTRA THIN FILMS GROWTH
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v21_n01_p230
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires
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spelling afa:afa_v21_n01_p2302025-12-11T16:59:12Z Crecimiento de películas ultra-delgadas de aisladores sobre una superficie metálica : AlF3 sobre Cu(100) An. (Asoc. Fís. Argent., En línea) 2009;01(21):230-233 Moreno-López, Juan Carlos Ruano Sandoval, Gustavo Daniel Vidal, R. A. Passeggi, Mario César Guillermo Ferrón, Julio FLUORURO DE ALUMINIO COBRE CRECIMIENTO DE PELICULAS ULTRA DELGADAS STM ALUMINIUM FLUORIDE COPPER ULTRA THIN FILMS GROWTH STM En este trabajo caracterizamos el crecimiento de películas de fluoruro de aluminio (AlF3) sobre Cu(100) mediante la técnica de microscopía túnel de barrido (STM). Las imágenes túnel muestran que a medida que van creciendo en tamaño las islas de fluoruro de aluminio, éstas experimentan una transición en su forma a bajos recubrimientos, de compacta a fractal (ramificada). Las islas de forma ramificada crecen lateralmente formando una película bidimensional hasta un recubrimiento de 0.80 monocapas. A mayores recubrimientos el crecimiento del tipo 2D cambia a 3D. Para obtener las imágenes túnel fue necesario utilizar altos voltajes (V≥2.50 V) lo cual muestra el carácter aislador de las islas de fluoruro de aluminio In this study we report the growth of aluminium fluoride (AlF3) films over a Cu(100) surface by means of scanning tunnelling microscopy (STM). The measurements reveal that aluminium fluoride islands undergo a shape transition at very low coverages, from compact to fractal-like, as they grow in size. These fractal-like islands cover the substrate with a single monolayer film up to depositions of 0.80 monolayers, while for larger coverages the growth results in the formation of three dimension islands. High voltages (V≥2.50 V) are needed to obtain STM images, showing the insulator character of the AlF3 islands Fil: Moreno-López, Juan Carlos. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Ruano Sandoval, Gustavo Daniel. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Vidal, R. A.. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Passeggi, Mario César Guillermo. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Fil: Ferrón, Julio. Universidad Nacional del Litoral - CONICET. Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC). Santa Fe. Argentina Asociación Física Argentina 2009 info:ar-repo/semantics/artículo info:eu-repo/semantics/article info:eu-repo/semantics/publishedVersion application/pdf spa info:eu-repo/semantics/openAccess https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/ar https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v21_n01_p230
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