Interacción de iones con superficies de películas aislantes : emisión electrónica

Se caracterizó el crecimiento de películas delgadas de fluoruro de aluminio (AlF₃) sobre superficies conductoras (aluminio y cobre) por espectroscopía de electrones Auger inducida por bombardeo de electrones. Se observó que el crecimiento de las películas es capa por capa. Se estudió la emisión elec...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Otero, Gonzalo, Tognalli, Nicolás, Sánchez, Esteban Alejandro, Grizzi, Oscar, Ponce, Víctor Hugo
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 2002
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v14_n01_p171
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