Deposición, caracterización y actividad electro-catalítica de capas delgadas de ITO fabricadas a ángulo oblicuo por RF magnetron sputtering

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En este trabajo, se fabricaron capas finas esculturales de ITO en configuración de ángulo oblicuo mediante RF magnetron sputtering con dos composiciones de plasma distintas, argón y oxígeno, y solo argón. Las mismas presentaron alta transparencia en el espectro visible, una porosidad considerable y...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Moreira, Ramiro Damián, Oliva-Ramírez, Manuel, Wang, Hongmei, Schaaf, Peter
Formato: Documento de conferencia acceptedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: 2021
Materias:
Plasma
Deposición electro-catalítica
ITO
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/20.500.12272/4720
Aporte de:
RIA - Repositorio Institucional Abierto (UTN) de Universidad Tecnológica Nacional
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description En este trabajo, se fabricaron capas finas esculturales de ITO en configuración de ángulo oblicuo mediante RF magnetron sputtering con dos composiciones de plasma distintas, argón y oxígeno, y solo argón. Las mismas presentaron alta transparencia en el espectro visible, una porosidad considerable y baja resistividad eléctrica. Se seleccionó un ángulo de deposición y se fabricaron capas en estructura chevron para su uso como electrodos electroquímicos. Al evaluar la actividad electrocatalítica, estas capas porosas mostraron mejor actividad en comparación con capas compactas, y a su vez las capa crecidas con argón y oxigeno superaron a las crecidas en sólo argón.
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author Moreira, Ramiro Damián
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