Fil: Christodoulides, C. E. Comisión Nacional de Energía Atómica; Argentina

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Christodoulides, C. E., Baragiola, R. A., Chivers, D., Grant, W. A., Williams, J. S.
Formato: ARTÍCULO CIENTÍFICO Versión publicada
Lenguaje:Inglés
Publicado: Gordon and Breach Science 1978
Materias:
The recrystallization of ion-implanted silicon layers. II: Implant species effect.
RECRYSTALLIZATION
ION IMPLANTATION
SILICON IMPLANTS
RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROSCOPY
POLYCRYSTALS
Acceso en línea:https://www.cnea.gob.ar/nuclea/handle/10665/1953
Aporte de:
Nuclea - Repositorio Institucional de la Comisión Nacional de Energía Atómica (CNEA) de Comisión Nacional de Energía Atómica (CNEA)
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