Deposición de películas de Ti por (PVD) para protección de aleaciones de aluminio

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Corengia, Pablo, Egidi, Daniel, Quinteiro, Mario, Ybarra, Gabriel, Moina, Carlos, Conterno, Gabriela, Roviglione, A., Centro de Investigación y Desarrollo en Mecánica. INTI-Mecánica. Buenos Aires, AR, Centro de Investigación y Desarrollo en Electrodeposición y Procesos Superficiales. INTI-Procesos Superficiales. Buenos Aires, AR, Facultad de Ingeniería. Universidad de Buenos Aires. UBA. Buenos Aires, AR, Jornadas de desarrollo e innovación, 4
Formato: conferenceObject
Lenguaje:Español
Publicado: INTI-Mecánica 2002
Materias:
Aleaciones de aluminio
Películas
Deposición
Titanio
Microscopía electrónica de barrido
Procesos superficiales
Acceso en línea:http://www-biblio.inti.gob.ar:80/gsdl/collect/inti/index/assoc/HASHb690.dir/doc.pdf
Aporte de:
Repositorio Institucional del Instituto Nacional de Tecnología Industrial (INTI) de INTI
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