Semiconductores III-nitruros : interfaces y aplicaciones tecnológicas
En esta tesis se investigó el crecimiento de AlN sobre sus-tratos de zafiro por el método MOVPE para su posterior utilización como pseudo-substrato en la fabricación de tran-sistores de alta movilidad de electrones (HEMT). Los experi-mentos de crecimiento se llevaron a cabo a 50 − 100 hPa y una temp...
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| Autor principal: | |
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| Otros Autores: | |
| Formato: | tesis doctoral |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2010
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://repositoriodigital.uns.edu.ar/handle/123456789/2223 |
| Aporte de: |
| Sumario: | En esta tesis se investigó el crecimiento de AlN sobre sus-tratos de zafiro por el método MOVPE para su posterior utilización como pseudo-substrato en la fabricación de tran-sistores de alta movilidad de electrones (HEMT). Los experi-mentos de crecimiento se llevaron a cabo a 50 − 100 hPa y una temperatura 950 − 1200 ◦C. Como precursores del grupo III y grupo V y gas portador se utilizaron TMAl, NH3, N2 y/o H2, respectivamente. La evaluación de la calidad de las películas se realizó ópticamente por reflectometría in-situ, estructuralmente mediante mediciones de difracción de ra-yos-X y morfológicamente por mediciones AFM y SEM. Se estudiaron principalmente dos tipos de estrategia de creci-miento, en una etapa y en dos etapas. Para ambas estrate-gias de crecimiento se estudió la influencia de la configuración de entrada (convencional - invertida) de los gases (precur-sores) al reactor. El impacto de la presión parcial de los pre-cursores del grupo III y grupo V a V/III constante se estudió para el caso de la estrategia de crecimiento en una etapa. En el caso del crecimiento de AlN en dos etapas se investigó el efecto del tiempo de nucleación a temperatura constante de 950 ◦C y la temperatura de crecimiento en el rango de
1140 − 1200 ◦C en el crecimiento de las películas de AlN. De los resultados obtenidos de las distintas experiencias se puede concluir en forma general y sólo para el rango de los valores utilizados para los distintos parámetros de crecimiento de AlN, que no es posible optimizar la calidad cristalina y la suavidad de la superficie de las películas al mismo tiempo con sólo variar un parámetro de crecimiento. |
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