Una especificación precisa para patrones GoF
Una especificación formal que permita definir en forma precisa la semántica de patrones de diseño, en particular patrones de Gamma o GoF [1], puede ser la base para definir una herramienta que ayude a desarrollar software más seguro. En ciertos dominios, certificar el uso de métodos y técnicas es in...
Guardado en:
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| Publicado: |
2001
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| Acceso en línea: | http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/21723 |
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Una especificación formal que permita definir en forma precisa la semántica de patrones de diseño, en particular patrones de Gamma o GoF [1], puede ser la base para definir una herramienta que ayude a desarrollar software más seguro. En ciertos dominios, certificar el uso de métodos y técnicas es indispensable para asegurar la calidad del software producido. Sin embargo, una notación más formal para patrones – que permita especificar en forma más segura, consistente y completa – es todavía un desafío. Nuestro primer trabajo en esa dirección y su extensión para incluir características semánticas implícitas en la estructura de un patrón [2][3], basados ambos en RSL (RAISE Specification Language) [4], fue originalmente comunicado en [5]. Esa formalización incluía sólo algunos patrones del catálogo de Gamma, aunque para verificar eventualmente que un diseño utiliza algún patrón es necesario incluir mayor cantidad (y diversos tipos) de patrones. Por otra parte, variaciones de los patrones también deberían considerarse.
En este resumen, presentamos una semántica precisa para patrones con la que finalmente ha sido modelado todo el catálogo de Gamma. Esa semántica ha servido también para iniciar la formalización de variaciones de esos patrones y de otros aplicables al análisis de dominios en lugar de al diseño de software. Futuras extensiones son abordadas al final. |
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Cechich, Alejandra Moore, Richard |
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