Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad
Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resul...
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| Autores principales: | Gallo, C., Zalduendo, M., Angelomé, P. |
|---|---|
| Formato: | Objeto de conferencia |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
2019
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/177441 |
| Aporte de: |
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