Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad

Objetivo: estudiar films delgados mesoporosos (FDM) consolidados a partir de rayos X de alta intensidad como método alternativo al uso de altas temperaturas. Justificación: los films delgados mesoporosos de TiO₂ y SiO₂ presentan alta superficie específica y arreglo de poros controlado, lo que resul...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Gallo, C., Zalduendo, M., Angelomé, P.
Formato:	Objeto de conferencia
Lenguaje:	Español
Publicado:	2019
Materias:	Ingeniería en Materiales films delgados mesoporosos rayos X de alta intensidad
Acceso en línea:	http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/177441
Aporte de:	SEDICI (UNLP) de Universidad Nacional de La Plata

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Estudio de films delgados mesoporosos tratados con rayos X de alta intensidad

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