Caracterización de silicio nanocristalino obtenido por PECVD de alta frecuencia

Se estudian las propiedades ópticas y estructurales de películas nanocristalinas de Silicio hidrogenado depositadas por VHF-PECVD a muy baja temperatura (~ 150 ºC). Las condiciones de deposición se ajustaron de modo de obtener un material de buenas características fotovoltaicas. Se presenta la carac...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Concari, Sonia Beatriz, Buitrago, Román Horacio, Cutrera, Miriam, Risso, Gustavo Armando, Battioni, Mario
Formato: Articulo
Lenguaje:Español
Publicado: 1999
Materias:
Ingeniería
Ingeniería Química
silicio nanocristalino
propiedades ópticas
propiedades estructurales
Acceso en línea:http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157788
Aporte de:
SEDICI (UNLP) de Universidad Nacional de La Plata
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