Crecimiento de películas delgadas de ZnO por nebulización pirolítica
Los films de ZnO depositados por nebulización pirolítica son una buena opción como materiales semiconductores transparentes de bajo costo. El proceso de nebulización pirolítica conlleva la evaporación de una solución que contiene iones de Zn sobre un sustrato que se mantiene a temperatura constante...
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2023
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I19-R120-10915-1574952023-09-11T20:03:21Z http://sedici.unlp.edu.ar/handle/10915/157495 Crecimiento de películas delgadas de ZnO por nebulización pirolítica Growth of ZnO thin films by pyrolytic nebulization Morinigo, Luis Ezequiel Vaveliuk, Pablo Tejerina, Matías Rubén 2023-06 2023-09-11T18:24:13Z es Química Física semiconductores de capa delgada solvente de solución thin-film semiconductors solution solvent Los films de ZnO depositados por nebulización pirolítica son una buena opción como materiales semiconductores transparentes de bajo costo. El proceso de nebulización pirolítica conlleva la evaporación de una solución que contiene iones de Zn sobre un sustrato que se mantiene a temperatura constante entre 350°C y 450°C. Una posibilidad para obtener recubrimientos de baja resistividad (del orden de 0.1 ohm*cm) es lograr capas homogéneas de baja porosidad de un espesor del orden de 1 m. En este trabajo se presenta el resultado de variar la proporción agua/etanol utilizado como solvente. Facultad de Ciencias Agrarias y Forestales Articulo Comunicacion http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/4.0/ Creative Commons Attribution-NonCommercial-ShareAlike 4.0 International (CC BY-NC-SA 4.0) application/pdf 56-56 |
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