Cita APA (7a ed.)

Vázquez, L., Albella, J. M., Salvarezza, R. C., Arvia, A. J., Levy, R. A., & Perese, D. (1996). Roughening kinetics of chemical vapor deposited copper films on Si(100).

Cita Chicago Style (17a ed.)

Vázquez, L., J. M. Albella, Roberto Carlos Salvarezza, Alejandro Jorge Arvia, R. A. Levy, y D. Perese. Roughening Kinetics of Chemical Vapor Deposited Copper Films on Si(100). 1996.

Cita MLA (8a ed.)

Vázquez, L., et al. Roughening Kinetics of Chemical Vapor Deposited Copper Films on Si(100). 1996.

Precaución: Estas citas no son 100% exactas.