Vázquez, L., Albella, J. M., Salvarezza, R. C., Arvia, A. J., Levy, R. A., & Perese, D. (1996). Roughening kinetics of chemical vapor deposited copper films on Si(100).
Cita Chicago Style (17a ed.)Vázquez, L., J. M. Albella, Roberto Carlos Salvarezza, Alejandro Jorge Arvia, R. A. Levy, y D. Perese. Roughening Kinetics of Chemical Vapor Deposited Copper Films on Si(100). 1996.
Cita MLA (8a ed.)Vázquez, L., et al. Roughening Kinetics of Chemical Vapor Deposited Copper Films on Si(100). 1996.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.