Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges /

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Detalles Bibliográficos
Otros Autores: Manenschijn, Albert (Disertante), Radelaar, S. (Orientador)
Formato: Tesis Libro
Lenguaje:Inglés
Publicado: 1991.
Materias:
Ion collisions > Theses.
Colisiones ionicas > Tesis.
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Bibliotecas (UNCuyo) de Universidad Nacional de Cuyo
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245 1 0 |a Ion bombardment and ion-assisted etching in rf discharges /  |c Albert Manenschijn. 
260 # # |c 1991. 
300 # # |a 147 p. :  |b il., gráficos ;  |c 24 cm. 
502 # # |a Tesis (doctorado, Ingeniería)--Technische Universiteit van Delft, 1991. 
504 # # |a Incluye referencias bibliográficas. 
100 1 # |a Manenschijn, Albert.  |4 dis 
710 2 # |a Technische Universiteit van Delft  |4 dgg. 
650 # 7 |a Ion collisions  |v Theses.  |2 inist 
650 # 7 |a Colisiones ionicas  |v Tesis.  |2 inist 
700 1 # |a Radelaar, S.  |4 ths 
040 # # |a arbccab  |b spa 
500 # # |a Director de tesis: S. Radelaar. 
500 # # |a Incluye índice. 
942 # # |c TS 
952 # # |2 udc  |a ARBCCAB  |b ARBCCAB  |i 13742  |o 537.534.8[043] M313  |p 13742  |t 1  |y TS 

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