Soft X-ray projection lithography

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Detalles Bibliográficos
Autores Corporativos: Topical Meeting, Soft X-ray projection lithography, California, 10-12, mayo, 1993, Optical Society of American (Washington, D. C.)
Otros Autores: Hawryluk, Andrew M. (ed.), Stulen, Richard H. (ed.)
Formato: Acta de conferencia Libro
Lenguaje:Inglés
Publicado: Washington, D. C. : Optical Society of American, 1993.
Materias:
FISICA
OPTICA
PROPIEDADES FISICAS
TECNOLOGIA OPTICA
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
Biblioteca H. González (UNGS) de Universidad Nacional de General Sarmiento
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