El cambio tecnológico en los análisis estructuralistas /

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Kuri Gaytán, Armando
Formato: Libro
Lenguaje:Español
Publicado: Chile : 1995 - Naciones Unidas - Cepal,
Materias:
Aporte de:Registro referencial: Solicitar el recurso aquí
LEADER 01956nam a22003375a 4500
001 RC
003 AR-SjUCS
005 20250617093105.0
007 ta
008 190729t1995 ||| 00 0 spa d
999 |c 50894  |d 50894 
022 |a  02510257 
040 |c AR-SjUCS 
041 |b ES 
045 2 |c 1970- 
082 |2 18a. ed. EN  |a HEM / 330 RC 
100 |9 37673  |a Kuri Gaytán, Armando 
245 1 3 |a El cambio tecnológico en los análisis estructuralistas /   |c Armando Kuri. 
260 |a Chile :  |c Naciones Unidas - Cepal,   |b 1995 -  
300 |a p.183 a 190 ;   |c 23 cm.  
310 |b 1970 -  
362 |6 RC 
505 |a Este artículo analiza el enfoque con que la CEPAL ha abordado el tema de la tecnología. Para ello identifica dos períodos. El primero va del surgimiento de la CEPAL hasta los años 70; corresponde a los esfuerzos por lograr la industrialización latinoamericana a través, fundamentalmente, de la sustitución de importaciones y se caracterizó por lo que en el trabajo se denomina una "pasividad tecnológica" tanto de los agentes como del pensamiento económico dominante en la región. El segundo período, que va de los años 80 a la fecha, se caracteriza por un "activismo tecnológico", producto tanto de la llamada Tercera Revolución Industrial, con sus fuertes repercusiones en la economía mundial, como de un viraje en el pensamiento cepalino, cuya preocupación central pasan a ser los factores determinantes del progreso técnico y de la competitividad, así como la equidad en el reparto de los frutos de dicho progreso, aspecto en el que retoma las ideas de Raúl Prebisch y Aníbal Pinto. 
600 1 4 |a PREBISCH, RAÚL  |9 24476 
600 1 4 |a PINTO, ANIBAL  |9 14820 
650 7 |a CAMBIO TECNOLOGICO  |9 37672 
700 1 |a Kuri Gaytán, Armando  |9 37673 
773 |t Revista de la Cepal  |w RC 
856 |q www.cepal.org 
900 |c 5984  |d Graciela Ines GOMEZ 
942 |2 ddc  |c ANA  |e 18a. ed. EN  |h HEM / RC  |6 HEM_RC