Mahmud, Z., Gordillo, G., Gassa, L., & Ventura D'Alkaine, C. (2016). Control de aditivo tiourea en la solución de electrodeposición de cinc por EIS.
Cita Chicago Style (17a ed.)Mahmud, Z., G. Gordillo, L. Gassa, y C. Ventura D'Alkaine. Control De Aditivo Tiourea En La Solución De Electrodeposición De Cinc Por EIS. 2016.
Cita MLA (8a ed.)Mahmud, Z., et al. Control De Aditivo Tiourea En La Solución De Electrodeposición De Cinc Por EIS. 2016.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.