Obtención de películas delgadas de silicio policristalino a partir de clorosilanos en reactores de CVD

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En este trabajo se presentan resultados obtenidos en la deposición y caracterización estructural de láminas delgadas de silicio policristalino. Como método de deposición se usó el CVD térmico a partir de triclorosilano, y como sustrato un vidrio comercial de alta temperatura. Se logró la deposición...

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Detalles Bibliográficos
Autores principales: Benvenuto, Ariel Gastón, Schmidt, J. A., Buitrago, Román Horacio
Lenguaje:Español
Publicado: 2010
Materias:
PELICULAS DELGADAS
SILICIO POLICRISTALINO
CVD
THIN FILMS
POLYCRYSTALLINE SILICON
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v22_n02_p056
Aporte de:
Biblioteca Digital - Facultad de Ciencias Exactas y Naturales (UBA) de Universidad de Buenos Aires

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