Obtención de películas y polvos ferroeléctricos libres de plomo
La utilización de cerámicos libres de plomo, para la fabricación de partes electrónicas, se ve favorecida sobre los cerámicos basados en plomo debido a los altos niveles de toxicidad de estos últimos. El reemplazo de estos componentes se ha convertido en un desafío tecnológico muy importante para lo...
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| Autores principales: | , , |
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| Formato: | Artículo publishedVersion |
| Lenguaje: | Español |
| Publicado: |
Asociación Física Argentina
2009
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v21_n01_p194 |
| Aporte de: |
| Sumario: | La utilización de cerámicos libres de plomo, para la fabricación de partes electrónicas, se ve favorecida sobre los cerámicos basados en plomo debido a los altos niveles de toxicidad de estos últimos. El reemplazo de estos componentes se ha convertido en un desafío tecnológico muy importante para lograr cumplir con parámetros de producción no contaminante y con las mismas o mejores propiedades ferroeléctricas, piezoeléctricas, etc. En este trabajo se estudian composiciones libres de plomo para la generación de películas cerámicas con propiedades piezoeléctricas en la familia de composiciones: (KXNa1-X)NbO3 (NKN) sobre wafers de Si/SiO2/TiOx/Pt utilizando una técnica de sol-gel modificada o CSD (chemical solution deposition), a partir de una solución de precursores principalmente metalorgánicos. Para la deposición se utiliza la técnica de spin-coating con control de atmósfera. Se estudia la influencia de distintos tratamientos térmicos en la cristalización final de las muestras y su relación con las propiedades de las mismas. Las técnicas utilizadas para la caracterización de las películas y polvos de similares composiciones son: UV-Vis, DRX, AFM, DTA-TG. |
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