Modelado de la evolución de defectos puntuales en Si

En este trabajo se estudia la movilidad y aglomeración de vacancias, utilizando la técnica de Monte Carlo cinético, en la red cristalina del Si a temperaturas relativamente bajas. En una primera etapa se utiliza el algoritmo de Metrópolis para simular el proceso de nucleación y crecimiento de aglome...

Descripción completa

Guardado en:
Detalles Bibliográficos
Autores principales: Smetniansky de De Grande, Nélida, Alurralde, Martín, Fernández, Julián Roberto
Formato: Artículo publishedVersion
Lenguaje:Español
Publicado: Asociación Física Argentina 2009
Materias:
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/20.500.12110/afa_v21_n01_p179
Aporte de:
Descripción
Sumario:En este trabajo se estudia la movilidad y aglomeración de vacancias, utilizando la técnica de Monte Carlo cinético, en la red cristalina del Si a temperaturas relativamente bajas. En una primera etapa se utiliza el algoritmo de Metrópolis para simular el proceso de nucleación y crecimiento de aglomerados. En una segunda etapa se reemplaza éste por el algoritmo de Bortz, Kalos y Lebowitz que permite acelerar los tiempos de simulación cuando el algoritmo anterior se hace ineficiente. Los resultados obtenidos con la aplicación de ambos algoritmos se comparan con los correspondientes a un trabajo previo basado en un modelo de evolución en el continuo