Simulación de ataque químico en sólidos cristalinos mediante modelos atomísticos discretos

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Este trabajo tiene como objetivo tratar un número de aspectos de la problemática de la evolución de la rugosidad en la superficie del silicio, tanto en los procesos de deposición como de ataque químico húmedo (etching), mediante modelos atomísticos discretos. Se hace énfasis especial en el estudio d...

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Detalles Bibliográficos
Autor principal: Torres, Juan Pablo
Otros Autores: Aldao, Celso Manuel
Formato: Tesis acceptedVersion Tesis de grado
Lenguaje:Español
Publicado: 2009
Materias:
Silicio
Ataque químico
Higiene y seguridad en el trabajo
Acceso en línea:http://rinfi.fi.mdp.edu.ar/handle/123456789/177
Aporte de:
RINFI - Facultad de Ingeniería (UNMdP) de Universidad Nacional de Mar del Plata (UNMdP)

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