Unidad de Investigación y desarrollo Optimo (Optica y Metrología Optica), Bolognini, N. A., Forte, G., Tagliaferri, A., Torroba, R. D., & Tebaldi, M. C. Self-imaging pitch variation applied to focal length digital measurements.
Cita Chicago Style (17a ed.)Unidad de Investigación y desarrollo Optimo (Optica y Metrología Optica), Néstor Alberto Bolognini, Gustavo Forte, A. Tagliaferri, Roberto Daniel Torroba, y Myriam Cristina Tebaldi. Self-imaging Pitch Variation Applied to Focal Length Digital Measurements.
Cita MLA (8a ed.)Unidad de Investigación y desarrollo Optimo (Optica y Metrología Optica), et al. Self-imaging Pitch Variation Applied to Focal Length Digital Measurements.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.