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Titulos:
Photon, beam and plasma assisted processing : proceedings of Symposium B on Photon, Beam and Plasma Assisted Processing Fundamentals and Device Technology of the 1988 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, 31 may-2 june 1988 / edited by Iam W. Boyd, E. F. Krimmel.
ISBN:
0444873015
Lugar de Edición:
Amsterdam :
Editor:
North-Holland,
Fecha de Edición:
1989
Palabras clave:
Carbono; Semiconductores; Crecimiento de cristales; Crecimiento epitaxiales; Plasma; Laser; Siliconas; Materiales; Tecnología de dispositivos; Siliconas vease ademas polimeros

Leader:
nam
Campo 003:
AR-CdUAS
Campo 008:
081100s1989____ne_||||||||||_0|||||eng|d
Campo 020:
^a0444873015
Campo 040:
^aAR-CdUAS^cAR-CdUAS
Campo 245:
00^aPhoton, beam and plasma assisted processing : ^bproceedings of Symposium B on Photon, Beam and Plasma Assisted Processing Fundamentals and Device Technology of the 1988 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, 31 may-2 june 1988 / ^cedited by Iam W. Boyd, E. F. Krimmel.
Campo 246:
Campo 260:
^aAmsterdam : ^bNorth-Holland, ^c1989
Campo 300:
^a703 p. ; ^c27 cm.
Campo 490:
1 ^aSymposia Proceedings / European Materials Research Society ; ^v2
Campo 650:
4^9106^aCarbono
Campo 650:
4^aSemiconductores^9659
Campo 650:
4^aCrecimiento de cristales^9182
Campo 650:
4^aCrecimiento epitaxiales^9183
Campo 650:
4^aPlasma^9563
Campo 650:
4^aLaser^9421
Campo 650:
4^aSiliconas^9665
Campo 650:
4^aMateriales^9440
Campo 650:
4^aTecnología de dispositivos^9694
Campo 650:
4^aSiliconas vease ademas polimeros
Campo 700:
1 ^aBoyd, Iam W.^92626
Campo 700:
1 ^aKrimmel, E. F.^95170
Campo 710:
^aEuropean Materials Research Society^910190
Campo 711:
2 ^aSymposium B on Photon, Beam and Plasma Assisted Processing Fundamentals and Device Technology of the 1988 E-MRS Spring Conference ^d(1988 : ^cStrasbourg)
Proveniencia:
^aUniversidad Nacional de Córdoba - Facultad de Ciencias Químicas - Biblioteca
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Institucion:
Universidad Nacional de Córdoba
Dependencia:
Facultad de Ciencias Químicas

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