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Titulos:
Régimen legal de los dibujos y modelos industriales.
Lugar de Edición:
Buenos Aires :
Editor:
Ediciones Depalma,
Fecha de Edición:
1962.
Palabras clave:
Derecho Comercial; Derecho Industrial; Design protection; Models (Patents)
Leader:
nam
Campo 003:
OCoLC
Campo 008:
780517s1962 ag 000 0 spa
Campo 100:
1 ^aZavala Rodríguez, Carlos Juan.
Campo 245:
10^aRégimen legal de los dibujos y modelos industriales.
Campo 246:
Campo 260:
^aBuenos Aires :^bEdiciones Depalma,^c1962.
Campo 300:
^a141 p. ;^c23 cm.
Campo 650:
4^aDerecho Comercial
Campo 650:
4^aDerecho Industrial
Campo 650:
0^aDesign protection^zArgentina.
Campo 650:
0^aModels (Patents)^zArgentina.
Proveniencia:
^aUnCuyo2
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Institucion:
Base de Datos MARC21 - OCLC
Dependencia:
BDUMARC21

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